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  • XMD2000滅菌混懸注射液研磨分散機

    滅菌混懸注射液研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000植物炭黑研磨分散機

    植物炭黑研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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  • XLC2000高分子水性膠粉液混合機

    高分子水性膠粉液混合機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XRS2000復方磺胺甲噁唑混懸液高剪切分散機

    復方磺胺甲噁唑混懸液高剪切分散機由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好。

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  • XMD2000多糖分散液高剪切超高速分散機

    多糖分散液高剪切超高速分散機由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好。

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  • XMD2000中藥材散劑提取研磨分散機

    中藥材散劑提取研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XLC2000補鈣劑高剪切分散混合機

    補鈣劑高剪切分散混合機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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  • XMD2000超微礦物混懸液研磨分散機

    超微礦物混懸液研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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